10.3969/j.issn.1009-3230.2017.01.002
ZnO薄膜掺杂研究进展
ZnO作为优良半导体材料,在光电、压电、压敏、气敏及光催化等领域应用广泛.随着ZnO薄膜制备方法研究的不断深入,研究人员开始探索如何获得低缺陷ZnO薄膜,以进一步拓展其应用.而高性能的p型ZnO是其开发应用关键所在,因此,p型掺杂引起了科研工作者极大的兴趣.文中就ZnO薄膜p型掺杂近些年的研究概况进行归纳总结,讨论p型掺杂的研究现状,包括分类及主要掺杂元素等,并分析其掺杂效果及原因,为高质量、高性能p型ZnO薄膜制备奠定研究基础.
ZnO、掺杂、p型、薄膜
TQ132.4
陕西国防工业职业技术学院2015年科研基金资助项目Gfy15-01
2017-03-10(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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