用于光学放大的掺铒氧化铝脊型波导研究

摘要：

使用磁控溅射制备了掺铒氧化铝薄膜,对薄膜进行了退火处理,测量薄膜的折射率和X射线衍射图谱,发现薄膜在600℃的退火温度下呈非晶态,在1.5μm处的折射率为1.67左右.模拟模场分布,获得光与掺铒层之间相互作用最大的波导结构参数,并进一步优化制备条件,实现侧壁光滑的低损耗掺铒氧化铝脊型波导.在1.31 μm的波长下,2 μm宽度的氧化铝脊型波导的损耗为1.6 dB/cm,和使用超快激光灼烧的方法所制备出的损耗为3.8 dB/cm氧化铝脊型波导相比,损耗大为降低.结果表明,掺铒氧化铝波导在平面集成波导放大器应用方面极具潜力.

关键词：氧化铝薄膜、射频溅射、紫外光刻、脊型波导、干法刻蚀

分类号：TN252(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家重点研发计划2020YFB1805900

在线出版日期：2023-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：127-133