激光诱导等离子体刻蚀Pyrex7740玻璃工艺研究

摘要：

通过控制变量法研究了激光能量密度、加工速度、重复频率、刻蚀次数等激光加工参数对紫外激光诱导等离子体刻蚀Pyrex7740玻璃刻蚀深度和表面刻蚀质量(包括边缘是否齐整、崩边、碎裂等)的影响规律.结果表明,以铜膜作为吸收层的紫外激光诱导等离子体刻蚀Pyrex7740玻璃的激光能量密度阈值在1.54～2.10 J/cm2之间,且在一定范围内激光能量密度越大,刻蚀深度越深,等离子体越稳定,刻蚀质量越好;激光刻蚀速度过慢或过快都会造成等离子体不稳定,对刻蚀质量产生不良影响,即并非光斑重叠度越大刻蚀效果越好.研究结果为激光诱导等离子体精密刻蚀Pyrex7740玻璃及其他光学透明材料刻蚀工艺优化和参数选取提供参考.

关键词：激光刻蚀、等离子体、控制变量法、能量密度阈值

所属期刊栏目：37

分类号：TN249(光电子技术、激光技术)

资助基金：浙江省钱江人才计划;山东省重大关键技术资助项目;温州市公益技术研究工业资助项目;山东省泰山学者工程专项经费资助项目

在线出版日期：2018-01-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：704-708