Ag/BaTiO3薄膜的激光刻蚀电极图案制备及性能研究

摘要：

采用激光刻蚀实现了BaTiO3薄膜上溅射Ag金属薄膜电极的图案化,并对激光刻蚀功率、激光刻蚀线间距以及点间距对图案微槽深度、刻蚀边缘整齐度和对底层BaTiO3的影响进行了研究.结果表明,图案刻蚀边缘整齐度随刻蚀功率先增大后减小,激光刻蚀功率为12 W时达到最优值,薄膜电极图案随刻蚀线间距以及点间距减小而刻蚀更加充分,在刻蚀线间距以及点间距达到0.03 mm时可以获得具有理想刻蚀精度的图案,且对BaTiO3薄膜未造成损伤,为MLCC等薄膜电容器的低成本快速制备提供了一种新的思路.

关键词：MLCC、激光刻蚀、图案化

所属期刊栏目：36

分类号：TG485(焊接、金属切割及金属粘接)

资助基金：国家自然科学基金;中国博士后科学基金;广西信息材料重点实验室项目;广西科学研究与技术开发计划资助项目;中国航天科技集团公司航天科技创新基金

在线出版日期：2016-10-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：428-433