衬底和退火处理对NiFe薄膜瞬时反射率的影响
用磁控溅射法制备Ni_(80)Fe_(20)薄膜,用中温管式炉对NiFe薄膜进行500℃退火处理,用X射线衍射(XRD)仪对退火后的薄膜进行结构分析.运用飞秒激光泵浦-探测技术研究了衬底和退火处理对NiFe薄膜瞬时反射率的影响.实验结果表明:硅片和K9玻璃衬底对20nm厚NiFe薄膜的瞬时反射率曲线影响较小,对40nm和60nm厚NiFe薄膜的瞬时反射率曲线影响较大;经退火处理后的NiFe薄膜的瞬时反射率曲线由小于5ps的时间尺度和大于5ps的时间尺度两部分组成.
超快光学、瞬时反射率、泵浦-探测、NiFe薄膜
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O484;TN247(固体物理学)
国家自然科学基金资助项目50575100
2010-04-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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