10.3969/j.issn.1000-372X.2009.05.016
连续激光作用下滤光片熔坑形成机理研究
在532nm波长连续激光辐照ZnS/SiO2/K9 630~690nm多层膜滤光片的损伤实验的电镜扫描分析下观察到了"熔坑"的现象,根据这个现象建立了含有Pt杂质的532nm波长连续激光辐照ZnS/SiO2/K9 630~690nm多层膜滤光片的热损伤模型.结合温度场的计算,研究了532nm连续激光辐照630~690nm多层薄膜滤光片时杂质周围产生的温升效应,通过对计算结果与实验结果的比较,分析了杂质对滤光片薄膜激光损伤的影响.分析了连续激光作用下杂质对滤光片的破坏机制,解释了滤光片熔坑产生的原因.
杂质、损伤、激光、滤光片、温度场
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TN2;TH7
2009-12-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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