透明材料的深紫外激光三维微刻蚀工艺

摘要：

157nm深紫外激光因其波长短且具有较高的光子能量,被视为较理想的微刻蚀工具之一.介绍了157nm深紫外激光的刻蚀机理,并利用先进的157nm激光微加工设备,进行了一系列微刻蚀实验.研究了激光工艺参数对石英玻璃的刻蚀效率和表面粗糙度的影响,进行了多种三维微结构的加工试验,证实了157nm激光微刻蚀工艺在制备MOEMS器件方面的实用性.

关键词：深紫外激光、三维微刻蚀、石英玻璃、微器件

所属期刊栏目：29

分类号：TN249(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家自然科学基金资助项目60537050;面上项目50775169

在线出版日期：2009-12-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：411-414