准分子激光电化学复合工艺中热-力效应研究

摘要：

为了探寻准分子激光电化学刻蚀硅工艺中的热-力效应特性,采用功率密度大的248nm准分子激光聚焦照射浸在KOH溶液中的n-Si表面,实现了一种激光电化学复合刻蚀工艺.通过数值仿真与实验比较的方法,对该工艺的刻蚀速率进行了分析.研究结果表明,该复合工艺存在激光直接刻蚀、电化学刻蚀和激光与电化学耦合刻蚀等三种刻蚀作用;在耦合作用中,溶液中激光加工的热效应较小,光热效应导致的刻蚀小;而溶液中激光加工的力学效应对材料的刻蚀作用很大.通过对准分子激光与溶液中靶材相互作用过程的热-力效应分析,更深入地探讨了准分子激光电化学工艺的刻蚀机理.

关键词：激光技术、激光电化学、热-力效应、刻蚀、硅

所属期刊栏目：29

分类号：TG665

资助基金：国家重点基础研究发展计划项目2003CB716207;国家自然科学基金资助项目50575078;广西制造系统与先进制造技术重点实验室主任基金项目0842006-030-Z

在线出版日期：2009-10-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：303-308