10.3969/j.issn.1000-372X.2009.03.004
脉冲激光溅射沉积镱铒共掺Al2O3薄膜工艺参数优化
分别以铝、铒、镱为靶材,采用脉冲激光沉积技术(PLD),在二氧化硅/硅基底上沉积镱、铒共掺的三氧化二铝薄膜.利用原子力显微镜(AFM)、单色仪等分析手段,研究了薄膜的表面形貌、光致发光强度(PL)等性质.优化了氧分压和靶间距两个重要工艺参数.光致发光强度提高14倍,半峰宽提高了70nm.
脉冲激光沉积(PLD)、镱、铒共掺Al2O3薄膜、氧分压、靶间距
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O484.1(固体物理学)
国家自然科学基金资助项目60477023
2009-10-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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