10.3969/j.issn.1000-372X.2008.01.006
高反射率193nm反射膜的实现
对应用于193nm反射膜的基底材料、薄膜材料、沉积技术与主要沉积工艺参数进行了分析与优化选择,在此基础上进行了193nm反射膜的设计、制备及后处理,实现了时间稳定性与环境稳定性良好的193nm反射膜,反射率达98%以上.
193nm、反射膜、反射率、光学稳定性
28
O484.4(固体物理学)
上海市重点学科建设项目B503
2008-06-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
19-21,29