激光直写制作二元光学元件掩模研究

摘要：

介绍了激光直写技术制作二元光学元件铬版掩模的原理,分析了影响铬版上铬膜氧化程度的因素,研究了铬版上刻写掩模图案时激光能量与刻写半径之间的关系,总结了利用激光直写方法刻写二元光学元件铬版掩模过程中激光能量的形成方法.

关键词：激光直写、二元光学元件掩模、铬版

所属期刊栏目：24

分类号：TN2(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2005-03-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：213-216