二硫化钼量子点/还原氧化石墨烯复合材料的制备及其光催化降解有机染料、四环素和Cr(Ⅵ)

摘要：

以钼酸钠、L-半胱氨酸和氧化石墨烯为原料,采用一锅溶剂热还原法制备了二硫化钼量子点/还原氧化石墨烯(MoS2 QDs/rGO)复合材料,分别以罗丹明B、亚甲基蓝、四环素和Cr(Ⅵ)为目标污染物,研究了复合材料的可见光响应光催化降解性能.结果显示,MoS2 QDs/rGO对两种染料和Cr(Ⅵ)的光催化降解率均可达97％以上,对四环素的光催化降解率为69％;循环使用10次,对目标染料的降解率均保持在90％以上.说明MoS2 QDs/rGO具有良好的催化活性和稳定性.在降解体系中分别加入异丙醇、对苯醌和乙二胺四乙酸二钠捕获剂,结果显示,超氧自由基(·O2-)是MoS2 QDs/rGO光催化反应的主要活性物种.

关键词：二硫化钼量子点/还原氧化石墨烯、光催化降解、有机染料、四环素、六价铬

所属期刊栏目：39

分类号：O643(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：辽宁省教育厅自然科学研究经费项目;辽宁师范大学新进博士科研启动项目;辽宁师范大学新进博士科研启动项目

在线出版日期：2022-07-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共10页

页码：769-778