光刻胶成膜剂:发展与未来

摘要：

随着集成电路制程向着3 nm乃至1 nm推进,光刻胶作为集成电路制造中最为繁杂的光刻工艺所需的重要耗材,愈发显示其重要性及挑战性.光刻胶随曝光光源的进步经历了从紫外到深紫外再到极紫外的发展,本文从成膜剂角度首先综述了紫外光刻胶及深紫外光刻胶的发展应用情况,接着对极紫外光刻胶的性能需求作了简述,最后重点针对极紫外光刻胶中的分子玻璃体系作了介绍及展望.

关键词：紫外光刻胶;深紫外光刻胶;极紫外光刻胶;化学增幅;分子玻璃

所属期刊栏目：38

分类号：O649(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：广东省"珠江人才计划"引进创新创业团队项目No.2016ZT06C412

在线出版日期：2021-11-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共12页

页码：1079-1090