新型玻璃刻蚀用光刻胶的研制

摘要：

采用环氧树脂改性超支化聚酯制备了玻璃刻蚀用的光刻胶掩膜,研究了该感光树脂的感光活性、耐刻蚀性,以及加入HCl、HNO3后刻蚀对玻璃刻蚀的影响.结果表明,所得感光树脂对玻璃有较好的附着力,厚度为40～50 μm的胶膜在ω(HF)为40%的溶液中抗浮胶时间超过6 min,光刻胶初始曝光时间T0为2.7 s,反差值γgel为2.8;昆合刻蚀剂对载玻片玻璃的刻蚀速度≥35 μm/min;以该光刻胶为单层掩膜,可得到线宽50 μm的清晰刻蚀图样,玻璃的刻蚀深度超过38 μm.

关键词：玻璃刻蚀、光刻胶、掩膜、超支化聚酯

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分类号：O644.1;TN305.7(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：教育部高等学校优秀青年教师教学科研奖励计划20006511

在线出版日期：2007-03-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：134-138