阴极电沉积法制备高氮含量氮化碳薄膜

摘要：

用双氰胺在乙腈中的溶液作沉积液,以镀有铟锡氧化物(ITO)的导电玻璃为衬底,在阴极上制备了高氮含量的CNx薄膜. XPS分析表明,薄膜最高氮碳原子比N/C为1.22(接近C3N4中氮碳计量比),碳和氮主要以C-N、 CN 的形式成键. FTIR支持XPS的分析结果. 拉曼光谱与大多数报道的氮化碳的拉曼光谱不同,在1 098和1 950 cm-1处有2个明显的峰,前者可归属为C-N,后者可归属为 CN . 在50 ℃、1 250 V下得到的样品薄膜的纳米硬度为11.31 GPa,弹性模量为86 GPa. 提出了极化竞争反应机制,简要的解释了CNx薄膜的沉积过程.

关键词：氮化碳膜、电化学沉积、硬度、模量

所属期刊栏目：21

分类号：O646;O484(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：国家自然科学基金20171007;高等学校博士学科点专项科研项目1999000718

在线出版日期：2004-03-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：36-40