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10.3969/j.issn.1000-0518.2003.05.002

金属的化学-机械抛光技术研究进展

引用
介绍了近年来金属化学-机械抛光(CMP)技术的一些研究进展. 内容包括CMP技术的实验方法进展与抛光效果的表征,CMP设备与消耗品的发展. 分析了目前CMP技术存在的问题,提出了可能解决问题的一些建议. 认为定量CMP速率方程的建立是解决好终点在线检测的关键之一.

金属、化学机械抛光、综述

20

O646(物理化学(理论化学)、化学物理学)

国家杰出青年科学基金59925412

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

415-419

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应用化学

1000-0518

22-1128/O6

20

2003,20(5)

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