基于位相测量偏折术的高精度检测平面光学元件面形的方法

摘要：

针对位相测量偏折术(phase measuring deflectometry,PMD)在光学元件面形的高精度检测中存在面形低阶误差控制困难等问题,介绍了位相测量偏折术检测平面光学元件面形的基本原理,对有关PMD技术的面形改进重建算法、相对检测和四步剪切的系统误差扣除方法的研究进展进行了阐述,分析了基于PMD技术实现对口径398.7 mm×422.8 mm平板玻璃的拼接检测以及平面元件中可能存在的寄生反射影响的消除方法.指出建立的6相机斜率拼接检测系统的检测精度RMS可达1μm,利用多频条纹法和二值条纹法可有效地消除寄生反射的影响,为大口径光学平面元件的前、后表面面形高精度检测提供一种可行的方案.

关键词：测量、光学检测、位相测量偏折术、平面光学元件、高精度检测、低阶像差、大口径拼接检测、寄生反射

所属期刊栏目：41

分类号：TN206;O435.1(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家自然科学基金61875142

在线出版日期：2020-08-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共13页

页码：844-856