射频聚焦离子源熔石英高确定去除特性研究

摘要：

在离子束抛光工艺过程中,材料确定性去除特性对预测光学元件的各工位材料去除量和驻留时间具有极其重要的作用.采用射频离子源对熔石英光学元件的离子束刻蚀特性进行了研究,利用ZYGO激光干涉仪获得准确的去除函数,系统分析了气体流量、屏栅电压、离子束入射角和工作距离等因素对熔石英去除函数的影响,并分析了各单一工艺因素微小扰动时,材料峰值去除率、半高宽和体积去除率的相对变化率.实验结果表明,相同工作真空条件下,工作气体质量流量的微小变化对去除函数影响极小,在典型的工艺条件下,屏栅电压在±5 V、离子束入射角±1°、工作距离在±0.5 mm范围内变化时,熔石英峰值去除率、体积去除率和峰值半高宽的相对变化均小于5％,去除函数具有较好的确定性和稳定性.

关键词：射频离子源、去除函数、离子束抛光、熔石英

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分类号：TN305.2(半导体技术)

资助基金：国防基础科研项目JCKY2016208A002;总装先进制造项目41423020111;陕西省教育厅重点实验室科研计划2015JS032;陕西省科技厅重点实验室项目2013SZS14-Z02;西安市科技计划项目201805031YD9CG15

在线出版日期：2019-05-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：284-290