平转动运动方式下环形抛光盘的去除函数研究

摘要：

为保证加工精度和提高抛光效率,推导了盘式动压抛光所用的环形抛光盘在平转动运动方式下的去除函数.在平转动运动方式下,与应用最为广泛的圆形抛光盘相比较,环形抛光盘的最大趋近因子提高了10.25％,更加趋近脉冲函数的特性,减少光学元件表面的中高频误差.给定初始面形误差,以相同的参数采用脉冲迭代法计算驻留时间和残留误差,经过50次迭代,仿真加工结果表明,环形抛光盘相比于圆形抛光盘的表面残留误差降低了3.65％,提高了抛光去除效率.

关键词：抛光、环形抛光盘、去除函数、趋近因子、残留误差

所属期刊栏目：37

分类号：TN204;O439(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家科技重大专项“大口径非球面机器人数控抛光系统研制”2013ZX04006-207

在线出版日期：2016-05-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：113-117