光学材料光学不均匀性绝对测量误差分析
绝对测量技术去除了干涉仪参考面面形误差,可实现光学材料光学不均匀性的高精度测量.对现有主要光学材料光学不均匀性绝对检测技术进行了总结比较,针对像素错位、干涉图分辨率、干涉仪测量重复性、样品厚度以及折射率测量等因素对光学不均匀性绝对检测的影响进行了实验分析.实验结果表明:干涉仪重复性是光学不均匀性测量的主要误差.样品翻转测量法、样品直接透射测量法、平行平板样品测量法3种测量方法均可实现光学不均匀性(RMS) 10-8检测精度.
测量、光学不均匀性、绝对检测、误差分析
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TN29;O436.1(光电子技术、激光技术)
中国工程物理研究院资助项目XX05010809
2013-07-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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