一种新型投影曝光调焦方法

摘要：

为研究大面积激光投影光刻的调焦,利用Zemax光学设计软件模拟离焦对光程差(OPD)和调制传递函数(MTF)的影响,分析二者对投影曝光图形质量的影响,给出系统最大的离焦量值.提出一种利用显微镜的调焦方法,分析此方法的调焦误差主要来自于显微镜景深,根据景深表达式和系统最大离焦量值,选择一款景深不大于系统最大离焦量的显微镜来构建调焦系统,并基于该调焦系统进行光刻实验.实验结果表明:利用该方法对投影成像光刻进行调焦,无论是否离焦,边缘视场与中心视场的MTF均有差异,分辨率也有差异,但这种差异不影响光刻图形的质量.

关键词：投影光刻、Zemax光学设计软件、调制传递函数、离焦、调焦

所属期刊栏目：34

分类号：TN206;O439(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家自然科学基金60977029;国家自然科学基金青年基金61107029;广东工业大学重大项目培育专项092010

在线出版日期：2013-07-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：430-435