三代微光管防离子反馈Al2O3膜电子轰击放气成分分析
为了解决防离子反馈Al2O3膜污染对三代微光管GaAs光电阴极灵敏度的影响,用四级质谱计对制管超高真空室残气、无膜微通道板(MCP)和带Al2O3膜MCP在电子轰击时的放气成份进行分析.结果表明,带Al2O3膜MCP放出有对阴极光电发射有害的C、CO、CO2、NO、H2O2和CxHY化合物,它们来源于Al2O3膜制备过程的质量污染.经过对制膜工艺质量进行改进,制备出了放气量小于2×10-9 Pa且无Cx HY化合物气体的Al2O3膜.
Al2O3膜、防离子反馈、MCP、电子轰击、质量污染
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TN143(真空电子技术)
2013-01-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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