ALD氧化铝单层膜1064nm激光损伤特性研究

摘要：

采用原子层沉积技术(atomic layer deposition,ALD)在熔石英和BK7玻璃基底上镀制A12O3单层膜.利用小口径损伤在线测试平台对膜层的1 064 nm 激光损伤特性进行了实脸测量,获得膜层损伤阈值约为10.3 J/cm2,对比了其与BK7基底损伤阈值之间的差异;利用Nomarski显微镜和原子力显微镜分析讨论了损伤形态的特点,结果表明报伤主要表现为膜层脱落和基片小孔烧蚀,其中小孔深度集中在 70 nm～95 nm范围;讨论了损伤发生的诱因,得出膜基界面可能存在吸收源先驱的推断.

关键词：激光损伤、原子层沉积、损伤阈值、损伤形态

所属期刊栏目：32

分类号：TN249;O437(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2011-06-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：373-376