UBMS技术制备DLC薄膜的光学常数椭偏分析

摘要：

K采用宽光谱变角度椭圆偏振仪对非平衡磁控溅射(UBMS)技术沉积的类金刚石(DLC)薄膜的光学常数进行了测量与分析.在建立模型时,根据DLC薄膜成膜特性,分析和调整了模型结构;综合考虑了表面粗糙度、薄膜与基底表面及界面因素对测试结果的影响,将表面层和界面层分离出来,并采用有效介质方法对它们的影响作了近似处理.结果表明:硅基底上采用UBMS技术制备DLC薄膜的椭偏数据,经该模型拟合后均方误差(MSE值)从37.39下降到4.061,提高了测量精度.

关键词：类金刚石薄膜、椭偏仪、非平衡磁控溅射

所属期刊栏目：30

分类号：O484.4-34(固体物理学)

在线出版日期：2009-04-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：105-109