基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量方法

摘要：

为解决薄膜厚度的高精度测量问题,提出一种基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量新方法,利用该方法对一个实际SiO2薄膜样片进行测试,通过对所获取的干涉图进行相位解包及数据分析处理,实现对薄膜样片厚度的精确测试.结果表明:该方法具有非接触和测量精度高等优点,所测薄膜厚度的峰谷值为0.162μm,均方根值为0.043μm,为薄膜工艺的进一步研究提供了检测方法上的技术保障.

关键词：相位偏移干涉法、干涉图、薄膜、薄膜厚度测量

所属期刊栏目：30

分类号：TN247(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2009-04-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：76-79,83