直流磁控溅射Cr-Cr2O3复合金属陶瓷薄膜光学特性研究

摘要：

采用直流反应磁控溅射技术在不同靶电流条件下制备了Cr-Cr2O3金属陶瓷薄膜,并利用椭偏仪测量了薄膜的光学常数.采用修正的M-G(Maxwell-Gannett)理论对不同靶电流条件下沉积的Cr-Cr2O3金属陶瓷薄膜的光学常数进行了理论计算,并将理论计算结果与实验数据进行了比较.结果表明:随着靶电流的增加,膜层中金属微粒体积百分比增加,金属微粒的平均半径随之增加,且金属微粒逐渐趋于扁圆形,理论计算结果与实验结果吻合较好.

关键词：直流磁控溅射、金属陶瓷薄膜、光学常数、修正M-G理论

所属期刊栏目：29

分类号：O484.4;TN304.055(固体物理学)

资助基金：西安工业大学校长科研基金资助项目XGYXJJ-0506

在线出版日期：2008-12-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：665-669