用二氧化钛、二氧化硅和氟化镁膜料镀制0.4μm～1.1μm超宽带增透膜

摘要：

对0.4 μm～1.1μm超宽带增透膜的镀制工艺进行了研究.根据长期从事该工作的经验和对膜料性能的研究,结合国产设备的实际情况,在膜料的选取上主要考虑其透明光谱区域、折射率、材料的蒸发方式、机械特性、化学稳定性及抗高能辐射等因素;最终选择用二氧化钛、二氧化硅和氟化镁3种常用膜料镀制0.4 μm～1.1 μm超宽带增透膜.涉及该膜系的膜层共有8层,结构为:|玻璃|H|M|H|M|H|M|H|L|空气|.制作工艺方便简单、稳定,制做的膜层具有较好的光谱和机械性能,满足光电仪器实际使用要求.

关键词：膜厚、膜层折射率、宽光谱、镀膜材料

所属期刊栏目：28

分类号：O484.41;TN209(固体物理学)

在线出版日期：2007-11-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：623-626