D-色氨酸修饰电极测定盐酸氨溴索的研究

摘要：

目的:研究聚D-色氨酸修饰玻碳电极的制备条件及该修饰电极的应用.方法:在含有2.50×10-3mol·L-1D-色氨酸的磷酸盐缓冲溶液(PBS)中,用循环伏安法,研究了聚合D-色氨酸的最佳条件;用示差脉冲伏安法测定盐酸氨溴索.结果:在玻碳电极上修饰D-色氨酸的最佳条件是:在2.5×10-3mol·L-1D-色氨酸的PBS(pH=4.0)中用循环伏安法修饰16圈.于PBS(pH=8.0)中测定盐酸氨溴索,测定的线性范围为:7.20×10-7～1.68×10-3mol·L～,检出限为2.4×10-7mol·L-1.结论:制得的聚D-色氨酸修饰电极具有较好的稳定性和重现性,且制作方法简便,用于盐酸氨溴索的测定具有较宽的线性范围和较低的检出限,建立了一种测定约物的新方法.

关键词：聚D-色氨酸修饰电极、盐酸氨溴索、示差脉冲伏安法

所属期刊栏目：28

分类号：R917(药物基础科学)

在线出版日期：2009-03-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：2125-2128