10.19611/j.cnki.cn11-2919/tg.2020.06.001
多晶硅清洗装备及技术发展展望
多晶硅的清洗环节作为多晶硅后处理过程中的关键环节,其装备技术的发展随着近年来多晶硅生产的规模化、精细化、智能化发展也在不断的优化提升,本文回顾了多晶硅清洗装备技术的发展历程,总结了多晶硅清洗的特点,并针对当前多晶硅的产品特点,对未来多晶硅清洗装备技术进行了展望,旨在为多晶硅生产企业在清洗装备技术选择上提供指导性意见.
多晶硅、清洗装置、碱洗法、酸洗法
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TQ172.2
2021-01-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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