电镀工艺条件与高饱和磁感应CONiFe软磁薄膜的性能

摘要：

研究电沉积钴镍铁合金工艺条件如电流密度、pH和温度以及镀层厚度对膜层性能的影响.用振动样品磁强计测试膜层的矫顽力Hc、磁化强度Ms及磁滞回线,用高频电感法测试膜层的磁导率μi,用四探针法测试膜层的电阻率ρ.结果表明,膜层的电磁性能与镀覆工艺条件相关,在最佳镀覆工艺条件下(电流密度10mA/cm2,pH=2.8,施镀温度25℃,时间10min)所得合金镀层光亮、致密,有较好电磁特性,Bs达1.9T,矫顽力Hc为1.15Oe,电阻率为45μΩ·cm,在1MHz下磁导率μi为602.

关键词：金属材料、高Bs软磁膜、电沉积、钴镍铁合金

所属期刊栏目：58

分类号：TQ153.2;TM271.2;TG146.1

资助基金：中国科学院资助项目50342017;北京市自然科学基金2042019

在线出版日期：2006-03-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：35-38