偶合化学发光法测定砷的研究

摘要：

本文将KMnO4在酸性介质中氧化As(Ⅲ)和高锰酸钾-甲氧苄啶-硫代硫酸钠化学发光反应偶合一起,建立了一种间接测定痕量砷含量的新方法.研究了各种反应物浓度、酸度、干扰离子等因素对测定结果的影响.As(Ⅲ)浓度在1.0×10-7～1.0×10-5g/mL范围内与化学发光强度有较好的线性关系.对5.0×10-6g/mL的As(Ⅲ)进行了11次平行测定,相对标准偏差为2.8%,方法的检出限为2.2×10-9g/mL.

关键词：甲氧苄啶、高锰酸钾、痕量砷、偶合化学发光

分类号：O61(无机化学)

在线出版日期：2005-10-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：38-39