大面积复杂掩模图形的快速光刻仿真研究

摘要：

大面积复杂掩模图形的光刻仿真,要同时满足高精度和高效率两个要求.为克服现有方法积分区域大,计算效率低等问题,提出了一种基于最有效影响区域的简化计算方法.该方法首先利用波前分割的方法确定影响光刻胶目标场点光强的最有效影响区域,以此局部区域替代原来的整体积分区域作光强的计算,将积分区域由整个掩模图形缩小为图形的一小部分.试验结果表明,该算法与现有方法比较,精度上非常接近,但速度显著加快,且稳定可靠.该方法能够快速准确地对大面积复杂掩模图形进行光刻仿真,具有重要的应用价值.

关键词：光刻仿真、复杂掩模图形、波前分割、计算效率

所属期刊栏目：31

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金10775128;和中国博士后科学基金20080430773

在线出版日期：2010-05-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：671-677