三维复杂微系统的微立体光刻成型工艺

摘要：

介绍了一种具有更高加工分辨率且可直接成型3维复杂微系统的一次曝光型微立体光刻成型样机MicroSLer,及其配套专用光敏树脂Micro SL5220.重点给出了MicroSLer中经薄膜晶体管阵列编址的液晶显示光阀表盘,也即可控透光模板的构造、性能及其对MicroSLer层面加工分辨率和截面曝光尺寸的影响.对比了MicroSLer的国产配套光敏树脂Micro SL5220与国外同类产品DSM7110型光敏树脂的各项技术指标.为证明一次曝光型微立体光刻工艺在成型3维复杂微结构时的优越性,给出了经MicroSLer成型出的微机械部件、微型件浇铸模、微流体系统部件等实物的扫描电子显微照片及相关的加工参数.探讨了现阶段的传统立体光刻工艺、小光斑立体光刻工艺及微立体光刻工艺在加工分辨率方面的差异,分别指出了影响这3种立体光刻成型分辨率的关键因素.

关键词：微成型、立体光刻、快速成型

所属期刊栏目：25

分类号：TN2(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2001AA423220;高等学校博士学科点专项科研项目20010288013

在线出版日期：2004-07-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：362-367