干涉图去包裹位相的二次校正

摘要：

相位去包裹是移相干涉技术中关键的组成部分.一些去包裹算法在处理具有较多无效成像点的干涉图时,会在处理结果中引入较大的算法误差.提出了通过对去包裹位相进行二次校正的方法,实现去包裹位相算法误差的有效消除.文中通过基于DCT变换的最小二乘去包裹算法为例进行了说明,并通过一光学平晶表面的处理结果对方法进行了验证.

关键词：移相干涉技术、去包裹算法、二次校正

所属期刊栏目：23

分类号：TH741(仪器、仪表)

资助基金：上海市教委资助项目

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：537-539,543