锡磨盘定偏心平面研抛中材料去除模拟

摘要：

本文使用超精密平面研磨机及锡磨盘进行超光滑表面的抛光研究.平面抛光中,锡磨盘表面的形貌和加工状况直接影响被加工工件的表面平面度.本文基于Preston方程,建立了在定偏心抛光条件下,被加工材料的去除模型.针对锡盘开有同心圆等沟槽的表面加工状况,提出了一种计算材料有效去除的算法,计算了工件的表面去除误差,对抛光后工件表面形貌提出理论预测.

关键词：锡、抛光、超精密抛光、平面、模拟计算

所属期刊栏目：21

分类号：TH7(仪器、仪表)

资助基金：中国科学院资助项目69637040

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：83-85