ICP-MS法快速测定多晶硅表面八种金属杂质含量
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1006-0308.2018.03.013

ICP-MS法快速测定多晶硅表面八种金属杂质含量

引用
使用硝酸、氢氟酸、过氧化氢和水的混合溶液浸取多晶硅表面金属杂质,无需赶尽氢氟酸,采用配备耐氢氟酸惰性进样系统的ICP-MS直接测定多晶硅产品中钠、铝、钾、铁、铬、镍、铜和锌8种表面金属杂质含量,结果表明该方法具有简便、快速、准确等特点,加标回收率为84.0%~110.6%,相对标准偏差(RSD)为3.79%~11.96%,检出限为0.003 ng/g ~0.018 ng/g.

表面金属、ICP-MS、惰性进样系统

47

O657.63(分析化学)

2018-08-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

79-83

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

云南冶金

1006-0308

53-1057/TF

47

2018,47(3)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn