10.3969/j.issn.1006-0308.2013.04.012
Cu-W、Cu-Mo薄膜的微观结构及显微硬度分析
采用磁控共溅射方法分别制备了含有W和Mo两种不同成分的铜系薄膜,用EDX、XRD、SEM和纳米压痕仪对薄膜成份、结构、形貌和显微硬度进行了分析.结果表明,制备出的Cu-W和Cu-Mo薄膜均呈晶态结构,Cu-W和Cu-Mo形成了均匀的固溶体;经650℃热处理1h后,Cu-W和Cu-Mo薄膜中晶粒长大,有富W和富Mo相从基体Cu相中弥散析出;Cu-W薄膜的显微硬度随W成分的增加先增加后降低;Cu-Mo薄膜的显微硬度随Mo成分的增加而持续升高,薄膜退火态的显微硬度低于沉积态.分析认为,以上结果的产生均因添加W、Mo所引起的晶粒细化效应和薄膜的热稳定性较差所致.
Cu-W薄膜、Cu-Mo薄膜、微观结构、硬度
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TG113.12(金属学与热处理)
曲靖师范学院实验教学研究项目syjx2011003
2013-10-10(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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46-49,63