钙盐沉淀法处理集成电路工业含氟废水影响因素研究

摘要：

研究了钙盐的投加量、pH值以及反应后的静置时间等因素在常温下对氢氧化钙和氯化钙两种钙盐用于处理某集成电路工业含氟废水的影响.结果表明,氢氧化钙在处理该废水过程中优于氯化钙;当达到理论投加量的200%时,pH=8.0左右,静置60min后,处理初始氟浓度为500mg/L的集成电路工业废水,其出水可以达到污水排放一级标准.

关键词：钙盐沉淀法、含氟废水、废水处理、影响因素

所属期刊栏目：26

分类号：X703(一般性问题)

在线出版日期：2007-10-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：35-38