牙本质表面处理对半导体激光治疗牙本质过敏症疗效影响的研究

摘要：

目的 通过临床疗效比较和扫描电镜观察,探讨牙本质表面处理对半导体激光治疗牙本质过敏症疗效影响,以找出半导体激光治疗牙本质过敏症的最佳使用方法.方法 111例,256颗患牙随机分为3组,A组直接用半导体激光照射,B、C两组分别用牙本质清洁剂、酸蚀荆处理牙面30秒后再使用半导体激光照射,比较各组的即刻疗效和3个月后疗效(采用)(X2检验);并复制牙本质模型,扫描电镜观察牙面经牙本质清洁剂或酸蚀剂处理后的形态变化.结果 B、C两组即刻疗效显著优于A组(P<0.01),而,B、C两组之间无显著差异(P>0.05),3个月后亦然;牙本质清洁剂和酸蚀剂处理牙面30秒后,均可彻底除去玷污层,但酸蚀剂可造成牙本质表面脱矿.结论 在使用半导体激光治疗牙本质过敏症之前,用牙本质清洁剂、酸蚀刑处理过敏区牙面30秒,可极大增强疗效.

关键词：牙本质过敏症、半导体激光、扫描电镜

所属期刊栏目：16

分类号：R781.4(口腔科学)

在线出版日期：2009-09-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：26-27