莨菪烷基添加剂对FFS模式中残像的影响

摘要：

残像的存在严重影响液晶显示器的画面品质.但由于其发生的机理较复杂,目前还没有较好的解决方案.本文以负性液晶材料为基础,在其中加入新型莨菪烷基添加剂,研究其在FFS模式中对残像的影响.通过闪烁漂移、DC残留电压释放以及棋盘格残像测试,系统分析并讨论了添加剂的使用对负性液晶残像的影响.研究结果表明,加入添加剂后,样品的闪烁漂移得到改善;残留DC偏置积聚量减小30％且释放速度提升了95％;V com漂移由0.7 V改善至0.02 V,V com亮度变化由8 cd/m2降低至2 cd/m2;线残像由L3改善至L1.本研究对从液晶材料方面改善残像具有一定的指导意义.

关键词：边缘场切换广角技术、残像、负性液晶、莨菪烷基添加剂

所属期刊栏目：36

分类号：TN141(真空电子技术)

在线出版日期：2021-04-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：504-508