用于有机发光器件和有机激光的纳米压印结构
在过去30年中,有机电致发光器件(Organic light-emitting devices,OLEDs)在显示和照明面板领域得到了快速的发展和应用.然而,固有的低光取出效率使OLEDs常需要集成光取出微纳结构.另一方面,有机半导体激光器(Organic semiconductor lasers,OSLs)由于具有发射光谱宽、制备简单、成本低和易于集成的优点也引起了广泛关注.同OLEDs需要集成微纳结构一样,在OSLs中也需要制备微纳结构用作谐振腔从而产生光增益来实现激射.在不同的微纳结构制备工艺中,纳米压印技术(Nanoimprint lithography,NIL)作为一种高分辨率、高产率和低成本的图案化技术,被认为是最有前景的技术之一.NIL不仅可以打破衍射极限和光散射的限制,而且可以保证有机光电材料的光学和电学性能不受损害.本文回顾了利用NIL在OLEDs制备结构化电极、结构化功能层和结构化封装层以及在OSLs中制备结构化染料掺杂聚合物以及结构化发光材料的方案.
纳米压印技术、有机电致发光器件、有机半导体激光器
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TN383+.1(半导体技术)
国家自然科学基金;吉林省自然科学基金;Supported by National Natural Science Foundation of China ;Natural Science Foundation of Jilin Province
2021-04-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共13页
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