喷墨涂覆配向膜涂覆的质量优化

摘要：

薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)成盒配向膜涂覆工艺中,配向膜的厚度、均一性和涂覆膜面质量直接影响液晶显示器的显示效果,为此本文研究了喷墨涂覆工艺对配向膜质量的影响.首先优化喷墨涂覆工艺,分析了喷吐频率对喷吐量及其均一性有显著影响.其次分析了负压、涂覆速度、配向膜溶液固含量、涂覆密度等条件对配向膜膜面质量的影响.实验表明当喷吐频率为1 000～8 000 Hz时,喷吐量均一性满足要求;当吐出频率达到10 000 Hz时,喷吐量严重不均一,不满足生产需求.得出喷涂频率、吐出量、负压、涂覆速度、配向膜溶液固含量、涂覆密度的优化条件分别为:3 000～5 000 Hz、50～70 pL、中心值±100 Pa、500～600mm/s、(3.9±0.4)％、50％～50.3％.降低配向膜溶液固含量可改善涂覆性不均缺陷,改变吐出密度可改善涂覆性不均缺陷,画质质量得到提升.本文对成盒工段配向膜涂覆质量优化取得了良好效果,能满足工程实践量产的需要.

关键词：TFT LCD、成盒工艺、配向膜涂覆工艺、喷墨涂覆

所属期刊栏目：35

分类号：TN141.9(真空电子技术)

在线出版日期：2020-05-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：341-349