Ti/Al/Ti干法刻蚀工艺中BCl3气体作用研究

摘要：

随着显示技术的发展,Ti/Al/Ti材料需求的厚度越来越厚,布线越来越窄.目前LTPS显示技术中常规的设计为Ti/Al/Ti材料衬底使用无机膜,后续柔性OLED显示技术新设计中Ti/Al/Ti衬底开始逐渐使用有机膜(聚酰亚胺等),Ti/Al/Ti干法刻蚀工艺面临的挑战越来越大.本文主要研究在常规Ti/Al/Ti干法刻蚀工艺中,BCl3气体对Ti/Al/Ti侧面形态的影响以及对光刻胶刻蚀速率的影响,实验结果表明:随着BCl3气体流量的增加,Ti/Al/Ti侧面保护膜的厚度越来越薄,对PR胶的刻蚀速率越来越小.本文研究结果便于更好地应对后续Ti/Al/Ti干法刻蚀衬底为有机膜的新工艺.

关键词：Ti/Al/Ti、干法刻蚀、BCl3、侧面保护、PR胶刻蚀速度

所属期刊栏目：34

分类号：TN321+.5(半导体技术)

在线出版日期：2019-12-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：857-861