TFT-LCD曝光工艺参数TP实验研究

摘要：

从Total Pitch(TP)的理论含义与监控原理出发,通过对相同Device下Pitch量和TP测试Mark的更改,讨论了X方向以及Y方向TP的变化.通过相同Lay out不同产品和相同产品不同Lay out的对比,发现TP并不随着Pitch量的改变而变化,但设备扭曲度(Distortion)影响着TP的变化,由此TP也可称为Distortion在实际生产中的简化监测点,并且得到TP从NG到OK变化的pitch量区间,这也为降低图形在基板上的扭曲程度和优化Mask设计提供了新思路.

关键词：整体倾斜度、扭曲程度、曝光、产品布局

所属期刊栏目：32

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2017-12-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：783-786