LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化

摘要：

为了适应LTPS TFT LCD显示屏超高分辨率极细布线的趋势,降低LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀带来的良率损失,提高产品品质,本文研究了LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化.实验以干法刻蚀为主刻蚀,湿法刻蚀为辅刻蚀的方式,既结合干法刻蚀对侧壁剖面角及刻蚀线宽的精确控制能力,又利用了湿法刻蚀高刻蚀选择比的优良特性,改善了层间绝缘层刻蚀形貌,减少干法刻蚀对器件有源层的损伤,避免有源层被氧化,防止刻蚀副产物污染开孔表面.实验结果表明,干法辅助湿法刻蚀能基本解决刻蚀过程中过刻、残留的问题,使得层间绝缘层过孔不良良率损失减少73％以上,且TFT源漏电极接触电阻减小约90％,器件开态电流提升约15％.干法辅助湿法刻蚀是一种优化刻蚀工艺,提升产品性能的新方法.

关键词：LTPS TFT LCD、干法刻蚀、湿法刻蚀、层间绝缘层过孔、接触电阻、器件性能

所属期刊栏目：31

分类号：TN43(微电子学、集成电路（IC）)

资助基金：国家863重大专项2013AA030601;福建省科技重大专项2014HZ0003-1;福建省自然科学基金No.2014J01236Foundation by National High Technology Research and Development Program of China2013AA030601;Important National Science & Technology Specific Projects of Fujian Province,China2014HZ0003-1;Natural Science Foundation of Fujian Province,China2014J01236

在线出版日期：2016-08-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：363-369