溅射功率对NiO薄膜性质的影响

摘要：

在室温条件下,采用射频磁控溅射的方法在石英衬底上制备了NiO薄膜,深入研究了不同溅射功率对NiO的结构、光学和电学特性的影响.随着溅射功率的升高,NiO薄膜逐渐由非晶态薄膜转变成具有(111)择优取向的晶态薄膜,同时发现NiO薄膜在可见光区透过率较大,而在紫外光区透过率减小;随着溅射功率的升高,薄膜在可见光区域和紫外区域的光学透过率均明显减小,同时禁带宽度也减小,但导电性增强.

关键词：射频磁控溅射、氧化镍、结构、光学、电学

所属期刊栏目：26

分类号：TB34(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金11004016;吉林省科技厅基金20080170

在线出版日期：2011-08-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：158-160