10.3969/j.issn.1007-2780.2008.05.021
LCoS微显示驱动芯片表面形貌研究与改进
介绍了LCoS技术的特点与发展现状,LCoS性能的优劣与硅基片平整度有直接关系,着重进行了LCoS微显示驱动技术表面形貌的研究与改进.通过严格控制工艺步骤,降低台阶高度;合理设计版图布局,使台阶叠加在隔离像素区域的沟槽中,这样既能实现像素电极区域的局部平坦化,又因为沟槽不作为显示区域,对整体显示效果影响较小.
LCOS、微显示、CMP、镜面电极
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TN27;TN873+.93(光电子技术、激光技术)
国家"973"重点基础研究发展计划资助项日2003CB314705
2009-03-10(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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629-632