数字掩模制作控制系统误差特性研究

摘要：

数字化掩模制作系统的核心控制部件是数字微镜.文中系统分析了数字微镜控制系统对数字化掩模制作系统精度的影响.指出误差来源主要为数字微镜帧刷新率、像素黑栅效应、像素量化和调制非线性等因素,并分别提出了相应的误差修正或补偿方法.提高系统的精缩倍数、像素分辨率以及占空比,可以降低这些误差来源的影响.

关键词：数字微镜、衍射光学元件、掩模、误差分析

所属期刊栏目：22

分类号：TN15;TN305.7(真空电子技术)

资助基金：安徽省教育厅自然科学基金2006KJ050B

在线出版日期：2007-12-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：607-610