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10.3969/j.issn.1007-2780.2004.02.003

(111)A InP衬底上MOCVD外延InGaAsP的表面形貌和光学特性

引用
为了研究(111)衬底的特性以及实现等边三角形微腔激光器,利用金属有机化学气相淀积(MOCVD)研究了(111)A InP衬底上InGaAsP外延层的表面形貌和光学特性.考虑到(111)A InP衬底的悬挂键密度比较低,在生长过程中有意提高了V/Ш比.通过扫描电子显微镜(SEM)和光荧光(PL)谱分别研究了外延层的表面形貌和光学特性.实验发现,表面形貌和光学特性随V/Ш比和温度的变化非常大.最佳V/Ш比和温度分别为400和625 ℃.

V/Ш比、表面形貌、光学特性、(111)A、InGaAsP

19

O472(半导体物理学)

国家高技术研究发展计划863计划2003AA311070;国家重点基础研究发展计划973计划G2000036606

2004-05-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

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1007-2780

22-1259/O4

19

2004,19(2)

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