低阻α-Ta栅电极材料的制备与研究

摘要：

研究了溅射Ta膜的电学和结构特性与N2气分压的关系.并确定了电学性能稳定低阻α-Ta薄膜(电阻率34μΩ·cm)的制备工艺条件.

关键词：α-Ta、直流磁控溅射、x射线衍射、方块电阻

所属期刊栏目：15

分类号：TN321.5;O484.4(半导体技术)

资助基金：中国科学院重大项目KY951-A1-502;吉林省科技厅科技攻关项目9701103-01

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：28-34